電 子 顯 微 鏡 及 附 屬 技 術 發 展 的 編 年 大 事 紀
電 子 顯 微 鏡 及 附 屬 技 術 發 展 的 編 年 大 事 紀1873 Abbe 和 Helmholfz 分 別 提 出 解 像 力 與 照 射 光 的 波 長 成 反 比 。 這 物 理 發 現 奠 定 了 電 子 顯 微 鏡 的 理 論 基 礎 。
1924 Louis de Broglie （ 1929 年 諾 貝 爾 物 理 獎 得 主 ） 提 出 電 子 本 身 具 有 波 動 的 物 理 特 性 ， 進 一 步 提 供 電 子 顯 微 鏡 的 理 論 基 礎 。
1926 Busch 發 現 電 子 可 像 光 線 經 過 玻 璃 透 鏡 偏 折 一 般 ， 由 電 磁 場 的 改 變 而 偏 折 。
1932 德 國 物 理 學 家 Knoll 及 Ruska 首 先 發 展 出 電 子 顯 微 鏡 原 型 機 。
1934 生 物 標 本 的 電 子 顯 微 鏡 相 片 首 次 出 現 在 學 術 雜 誌 上 。
1935 改 良 的 電 子 顯 微 鏡 終 於 突 破 光 學 顯 微 鏡 解 像 極 限 。
1937 首 部 商 業 原 型 機 製 造 成 功 （ Metropolitan Vickers 牌 ） 。
1938 第 一 部 掃 描 電 子 顯 微 鏡 由 Von Ardenne 發 展 成 功 。
1938～39 穿 透 式 電 子 顯 微 鏡 正 式 上 市 （ 西 門 子 公 司 ） 。
1940～41 RCA 公 司 推 出 美 國 第 一 部 穿 透 式 電 子 顯 微 鏡 。
1941～63 解 像 力 提 昇 至 0.2 ～ 0.3 毫 微 米 （ nm ） （ 穿 透 式 ） 及 10 毫 微 米 （ 掃 描 式 ） 。
1947～48 Osmium 首 次 被 應 用 來 固 定 組 織 ， naphthalin 被 用 在 包 埋 組 織 。
1949 使 用 Methacrylate 包 埋 組 織 。
1950 玻 璃 刀 應 用 於 超 薄 切 片 。
1953 鑽 石 刀 切 片 應 用 於 超 薄 切 片 （ 60 ～ 90 毫 微 米 厚 度 ） ， 超 薄 切 片 機 Sorval -1 上 市 （ 本 部 有 三 部 並 且 尚 在 運 轉 中 ） 。
1956 使 用 Epoxy Resin 包 埋 組 織 。 細 胞 斷 裂 技 術 發 展 成 功 。
1957～63 冰 凍 斷 裂 技 術 發 展 成 功 。
1958 Watson 首 先 發 展 出 重 金 屬 染 色 （ 鉛 與 鈾 ） 。
1961 開 始 使 用 EPON 包 埋 材 ， 但 因 具 有 致 癌 性 ， 目 前 已 經 停 用 。
1963 使 用 glutaraldehyde 固 定 標 本 。
1980 隧 式 掃 描 電 子 顯 微 鏡 （ Scanning tunneling electron microscope ） 發 展 成 功 。
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