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老光头 发表于 2007-3-12 22:35

(转帖)LiAlH4还原

  [color=limegreen]转自: DXY[/color]

各位高人,本人实验过程中,有时用到LiAlH4还原,但是不管怎么样做都遇到副反应点超多的情况,当然这跟具体的底物有关,但是,我在儿想问的是:LiAlH4还原对溶剂中水的要求很高吗?比如:还原肟时,用LiAlH4-THF体系是最常用的了,这THF溶剂中的水对反应影响大吗?有人说,可以直接用一瓶新开的THF就可以了,有的人说需要干燥;我用的是THF是Na块干燥过的THF,但是怎么做,副反应点极多,所以有点郁闷哦,请各位高手指点一二。

谢谢万分

老光头 发表于 2007-3-12 22:35

呵呵 我不是高手 但用过LiAlH4 不知道能不能帮上你
我想问一下你是用来还原什么基团呢?用的是几个当量啊?
我个人觉得THF干燥与否好像影响不大 因为两种我都用过 没有明显的差别
倒是对某些底物 LiAlH4用量较大时杂质较多

老光头 发表于 2007-3-12 22:36

LAH最好在干燥THF中使用,THF与钠和二苯甲酮回流干燥即可。
有时候LAH还原能力过强会导致反应点很复杂。可以考虑更换底物滴加顺序,LAH的量等等,重新摸索条件。或者使用NaBH4等一些较弱的还原剂,再试试。祝好运。

老光头 发表于 2007-3-12 22:36

可以试一下NaBH4加上乙酸的还原,用干燥的THT做溶剂

在RCS上面有一个很好的这个还原的review,你可以去查查

还原效果也不错

又很多点的原因是LAH的还原性太强了

老光头 发表于 2007-3-12 22:36

说几句供参考。
还原肟的方法有很多,可在OS上查阅一下,选用相对较弱的还原剂应该加予考虑,如果一定要用LAH做,需注意以下几点:
1. LAH必须在干燥THF中使用,否则会引起投料量的不准确。在加入LAH时最好溶于THF后滴加,反应比较容易控制。

2. 反应过程中的温度很重要,要给予必要的重视。

3. LAH作为强还原剂,功能较强,要注意所还原化合物的结构中是否有可能被LAH作用的基团,如卤素(F除外)。

4. LAH还原速度一般较快,应通过必要方法对反应进程进行适时监控。原料消失后应及时处理,否则会有意外的副反应产生。

5.后处理也应重视,如何破坏多余的LAH要慎重,体系的酸碱度可能会对反应产生质的影响;同时尽量避免后处理体系中胶状物的产生。

对于作用强的试剂,应时时关注,多读些相关文献找找感觉是很必要的。
最后顺祝实验顺利!

老光头 发表于 2007-3-12 22:36

啊,非常谢谢楼上各位热心朋友的鼎立相助!我已经在做了,成功再了感谢各位!嘻嘻

老光头 发表于 2007-3-12 22:36

楼主能给个QQ号不,我也做LAH的还原,可以交流一下

老光头 发表于 2007-3-12 22:36

我还原肟用的锌粉&盐酸乙醇。

老光头 发表于 2007-3-12 22:36

我认为产物点板复杂是因为你的铝锂氢是国产的。我做过这样的反应,其实是因为铝锂氢造成的。还原肟的反应很多,氢化还原,钠/醇体系的还原等等 。比你 的条件好多了。更重要的是你的这个反应很不安全,要小心,加料,回流,和淬灭。

要注意安全。一万次都不出事没事。出一次事就是0

老光头 发表于 2007-3-12 22:36

LAH可能会与肟的活泼氢反应。

老光头 发表于 2007-3-12 22:37

可以试一试用红铝代替。

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